哈氏槽,霍爾槽,赫爾槽,Hull ll

詳細(xì)介紹哈氏槽的用途

哈氏槽試驗(yàn)做為研究開(kāi)發(fā)，電鍍工廠管理、電鍍實(shí)驗(yàn)極有價(jià)值。蘇州江東精密儀器有限公司為您介紹哈氏槽的用途。
      哈氏槽試驗(yàn)
哈氏槽試驗(yàn)做為研究開(kāi)發(fā)，電鍍工廠管理、電鍍實(shí)驗(yàn)極有價(jià)值。
一、其主要目的可分，
(1) 測(cè)知以理論調(diào)配之鍍液之電鍍實(shí)用范圍。
(2) 分析鍍液組成，添加劑、雜質(zhì)的變化或影響。
二、哈氏槽試驗(yàn)可用于下列之管理：
(1) 用化學(xué)分析求不出的成份。
(2) 用化學(xué)分析太費(fèi)時(shí)間的成份。
(3) 非常微量就會(huì)影響電鍍的成份。
(4) 固障的分析及預(yù)測(cè)。
三、從哈氏槽試片可觀查分析出：
(1) 不同電流密度之鍍層變化。
(2) 鍍液溫度之影響。
(3) 鍍液性能的變化。
(4) 鍍液成份變化的影響。
(5) 鍍液中雜質(zhì)的影響。
(6) 鍍液中添加劑的影響。
(7) 鍍液的覆蓋力。
(8) 鍍液的均一電著性。
四、 管子試驗(yàn)
管子試驗(yàn)是用適當(dāng)大小的空心管子在鍍液中以適當(dāng)電流電鍍，測(cè)試鍍液的電著均一性，其公式如下：
均一電著性(％)＝(被鍍上部份的面積／管內(nèi)全部的面積)＊100％
五、陰極彎曲試驗(yàn)
陰極彎曲試驗(yàn)是將陰極試片彎曲成45度，于一定電流進(jìn)行適當(dāng)時(shí)間電鍍，測(cè)定出電著均一性。
六、鍍液化學(xué)成份定性及定量分析
詳細(xì)內(nèi)容請(qǐng)參閱有關(guān)金屬表面技術(shù)資料的分析規(guī)范，其主要內(nèi)容包括有：
(1) 分析的基本知識(shí)。 (7) 銅材浸蝕液分析。
(2) 分析的基本操作。 (8) 各種鍍金液分析。
(3) 堿性洗凈液分析。 (9) 化成處理液分析。
(4) 酸性洗凈液分析。 (10)熱處理鹽分析。
(5) 水質(zhì)分析。
(6) 鋁材堿性浸蝕液分析。
七、ｐＨ值測(cè)定
ｐＨ值可由指示劑的比色法(colorimetric method)及PH計(jì)測(cè)定法。
八、比重測(cè)定
比重(specific gravity)的測(cè)定可以簡(jiǎn)易快速的了解鉻鍍液中鉻酸之濃度，硫酸銅鍍液中硫酸之濃度，陽(yáng)極處理液中之鉻酸鹽之濃度等。
九、 表面張力測(cè)定
鍍液中加潤(rùn)濕劑(wetting agent)做為防止針孔劑(anit-pitting agents)時(shí)，表面張力測(cè)定可做為控制濕潤(rùn)劑的參考其它如清潔液中的接**性劑(surfactants)也可以用表面張力測(cè)定來(lái)加以控制　
十、鍍液導(dǎo)電度測(cè)定
鍍液導(dǎo)電度測(cè)定對(duì)于電鍍操作較不重要 但對(duì)于電鍍清洗用水(rinse water)的控制是很重要的，它可以測(cè)出清洗用水的殘留鹽(residual salts)的含量加以控制。